浏览数量: 3 作者: 本站编辑 发布时间: 2025-12-06 来源: 本站
以下是对常见工业陶瓷块(尤其是氧化铝基)有害的主要腐蚀介质及其作用机理:
反应式:
危害:
即使极低浓度(<1%)的HF也能快速溶解氧化铝;
常温下即可发生剧烈腐蚀,表面粉化、剥落;
常见场景:
玻璃蚀刻、半导体清洗、磷肥生产、含氟烟气(如铝电解、钛白粉氯化法)。
⚠️ 结论:任何含氟环境(HF、NH₄F、NaF + 酸)均禁用氧化铝陶瓷!
反应式:
危害:
在高温(>80℃)和高浓度(>10%) 条件下腐蚀显著;
表面变粗糙、失重,强度下降;
常见场景:
铝土矿拜耳法溶出、造纸黑液处理、锂电池正极材料合成(高pH前驱体)。
✅ 注意:稀碱或低温弱碱(如pH<12,<60℃)对95% Al₂O₃影响较小。
条件:浓度 >85%,温度 >150℃;
反应:缓慢生成磷酸铝(AlPO₄),但长期作用会导致表面疏松;
风险等级:中等,短期可用,长期慎用。
如:熔融 Na₂CO₃、KOH(用于燃料电池、高温电解);
危害:在600℃以上剧烈反应,陶瓷迅速崩解。
| 陶瓷类型 | 有害介质 | 腐蚀机理 |
|---|---|---|
| 碳化硅(SiC) | 强碱(NaOH/KOH) + 氧化剂(O₂) | SiC + 4NaOH + 2O₂ → Na₄SiO₄ + 2H₂O(高温加速) |
| 氢氟酸(HF) | SiC + 4HF → SiF₄↑ + CH₄↑(缓慢,但存在) | |
| 氮化硅(Si₃N₄) | 水蒸气(高温) | Si₃N₄ + 6H₂O → 3SiO₂ + 4NH₃(强度退化) |
| 强酸(尤其HF) | 氮化物水解加速 | |
| 氧化锆(ZrO₂) | 氢氟酸(HF) | ZrO₂ + 4HF → ZrF₄ + 2H₂O |
| 浓硫酸(热) | 缓慢反应生成硫酸锆 |
关键点:HF几乎对所有含Si、Al、Zr的陶瓷都有害!
| 工况 | 风险说明 |
|---|---|
| 含氟离子的弱酸环境(如HF + H₂SO₄混合) | 即使pH=3–4,F⁻仍会络合Al³⁺,持续腐蚀 |
| 湿氯气(Cl₂ + H₂O) | 生成HCl + HOCl,虽不直接腐蚀Al₂O₃,但可能腐蚀金属基体导致陶瓷脱落 |
| 高温含硫烟气冷凝液 | 形成H₂SO₄,若含F⁻(如燃煤含氟),协同腐蚀加剧 |
| 介质 | 氧化铝(95%) | 碳化硅(SiC) | 氧化锆(ZrO₂) | PTFE(塑料) |
|---|---|---|---|---|
| 盐酸(HCl) | ✅ 优 | ✅ 优 | ✅ 优 | ✅ 优 |
| 硫酸(H₂SO₄) | ✅ 优(<98%, <100℃) | ✅ 优 | ✅ 优 | ✅ 优 |
| 硝酸(HNO₃) | ✅ 优 | ✅ 优 | ✅ 优 | ✅ 优 |
| 氢氟酸(HF) | ❌ 极差 | ⚠️ 差(缓慢腐蚀) | ❌ 差 | ✅ 优 |
| NaOH(10%, 80℃) | ❌ 差 | ⚠️ 中(高温氧化加速) | ✅ 良 | ✅ 优 |
| 王水 | ⚠️ 中(缓慢) | ✅ 良 | ✅ 良 | ✅ 优 |
✅ = 耐受;⚠️ = 有条件耐受;❌ = 不适用
明确介质成分:不仅看主成分,更要关注微量杂质(如F⁻、Cl⁻);
考虑温度与浓度:同一介质,低温稀溶液可能安全,高温浓溶液则危险;
优先选择惰性材料:
含HF → 选 PTFE、PFA、哈氏合金;
强碱高温 → 选 镍基合金、PTFE 或 特种玻璃;
做挂片试验:在真实工况下进行3–6个月材料浸泡/冲刷测试;
避免“陶瓷万neng论”:陶瓷耐磨≠耐所有腐蚀!
对氧化铝陶瓷具破坏性的腐蚀介质是:
氢氟酸(HF) 和 高温浓强碱(NaOH/KOH)。
在涉及以下场景时,切勿盲目使用氧化铝陶瓷块:
半导体、光伏行业的含氟清洗/刻蚀;
铝冶炼、磷化工、钛白粉生产的含氟废气/废液;
锂电池材料合成中的高pH(>12)高温反应;
造纸、印染行业的高温强碱蒸煮。
✅ 正确做法:根据具体介质+温度+浓度+磨损需求,选择 SiC、PTFE、特种合金或复合衬里方案。